[发明专利]以Oligo(dT)为亲和配基的层析填料的用途在审
| 申请号： | 202111618622.7 | 申请日： | 2021-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN114381454A | 公开（公告）日： | 2022-04-22 |
| 发明（设计）人： | 吕小林;齐甜铭;丁良龙;胡新妹;毛慧明 | 申请（专利权）人： | 苏州赛分科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C12N15/10 | 分类号： | C12N15/10;B01D15/10;B01D15/16;B01D15/38 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 冒艳 |
| 地址： | 215000 江苏省南京市中国（江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开以Oligo(dT)为亲和配基的层析填料的用途，公开该层析填料在纯化mRNA工艺中的用途，纯化的工艺包括：a.制样；b.上样；c.洗杂；d.洗脱；e.在位清洗。本发明采用上述填料的纯化方法能实现mRNA的有效捕获、除杂和洗脱，简化后续纯化步骤并最大限度地提高下游纯化整体生产效率，适合工业放大生产。此外，环形RNA序列中如果有Poly(A)结构，该柱层析法也适用。 | ||
| 搜索关键词： | oligo dt 亲和 层析 填料 用途 | ||
【主权项】：
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