[发明专利]一种铝钪合金溅射靶材及其制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种铝钪合金溅射靶材及其制备方法和应用，该铝钪合金溅射靶材包括铝和钪，其中钪的原子百分含量≥0.01％且小于3.5％，其余为铝。其制备方法包括：将铝和钪的金属料制成合金熔液，冷却，所得合金锭经热锻打、冷轧和热处理，得到铝钪合金溅射靶材。本发明铝钪合金溅射靶材中，通过在纯铝在添加特定比例的钪，使其更适合于溅射镀膜工艺，同时该铝钪合金溅射靶材可制备具有导电性好、质量好的铝钪合金薄膜，因而本发明铝钪合金溅射靶材可完全取代目前工业界使用的铝钕合金溅射靶材，并且更有利于获得性能更为优异的液晶面板、有机发光二极管和触控式面板，使用价值高，应用前景好。