[发明专利]一种电弧阴极磁过滤镀膜装置有效
| 申请号： | 202110746031.1 | 申请日： | 2021-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN113463041B | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | 郑军;赵栋才;刘兴光;王启民;张子扬;张浩洋 | 申请（专利权）人： | 安徽工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 合肥昊晟德专利代理事务所(普通合伙) 34153 | 代理人： | 何梓秋 |
| 地址： | 243032 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电弧阴极磁过滤镀膜装置，属于真空镀膜技术领域，包括真空腔室、挡板组件、工件转架、两个电弧阴极组、四个第二真空室、两个第一真空室、第一线圈组、第二线圈组、第三线圈组；所述工件转架、所述挡板组件均设置在所述真空腔室的内部，所述挡板组件与真空腔室活动连接并接地。本发明将过滤系统放大，使等离子体局部横穿真空室的特点，则镀膜的区域就被放大了，同时通过接地的大型挡板，能够有效地阻断等离子体从真空腔室一侧向另一侧的传输，进而阻挡等离子体穿越工件转架区域后直接到达另一端电弧阴极位置，能使大型的工件转架浸入等离子体中，进而完成大面积地均匀沉积。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电弧 阴极 过滤 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
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