[发明专利]图文处理中的投射方法、装置、电子设备及存储介质在审
| 申请号： | 202110658440.6 | 申请日： | 2021-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN115482303A | 公开（公告）日： | 2022-12-16 |
| 发明（设计）人： | 刘昌伟;韦祖兴;何金军;李华伟 | 申请（专利权）人： | 北京亦心科技有限公司 |
| 主分类号： | G06T11/00 | 分类号： | G06T11/00 |
| 代理公司： | 北京善任知识产权代理有限公司 11650 | 代理人： | 李梅香 |
| 地址： | 100080 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开是关于一种图文处理中的投射方法，包括：控制面板；其中，所述控制面板包括：调整框及显示在所述调整框内的调整条；其中，所述调整条至少包括：第一端点和第二端点；检测作用于所述第一端点和/或所述第二端点的调整操作；根据所述调整操作，调整所述第一端点和/或所述第二端点在所述调整框内的位置；根据所述调整条在所述调整框内的呈现状态，确定投射对象的投射效果。实现了通过操作投射控制面板控制投射对象的投射效果，不需要直接对投射对象进行调节操作，提高了对投射对象的投射效果的进行调节的实时性、便利性。 | ||
| 搜索关键词： | 图文 处理 中的 投射 方法 装置 电子设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
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