[发明专利]掩模板及监控遮光板位置的方法

摘要

本发明提供一种掩模板及监控遮光板位置的方法，所述掩模板包括一基板，所述基板的框架区域设置有至少四个检测标记组，且沿所述基板的每个边上至少分布有一个所述检测标记组，利用所述掩模板曝光时所述遮光板能够移动至所述掩模板上方并遮挡所述检测标记组的部分区域。通过带有检测标记的掩模板将检测标记自动曝光到晶圆，再将带有遮光板位置信息的晶圆，投入套刻精度检测机器(OVL)自动测试，得到刻套标记图形的数量，利用刻套标记图形的数量乘以套刻标记图形的中心间隔即可确认光刻设备的遮光板位置。整个监控过程，自动曝光、自动测量、直接对比，解决了对光刻设备的遮光板位置进行方便快捷监控的问题。