[发明专利]产生标准单元库版图的方法在审
| 申请号： | 202110571843.7 | 申请日： | 2021-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN113158618A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 杨景丞 | 申请（专利权）人： | 杨家奇 |
| 主分类号： | G06F30/398 | 分类号： | G06F30/398 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 中国台湾新北市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种产生标准单元库版图的方法，包括：首先，将版图设计规则和电路设计参数输入至版图算法资料库，以利用所述版图算法资料库检测标准单元的各版图布局是否符合晶圆厂设计规则，并检测标准单元的各版图布局的电性规格是否符合使用要求；或者，将版图设计规则输入至版图算法资料库，以利用所述版图算法资料库检测标准单元的各版图布局是否符合晶圆厂设计规则；利用电路仿真软件获取晶圆厂提供的元器件模型,得到仿真的结果以判断标准单元的各版图布局是否符合电性规格；而后将符合晶圆厂设计规则以及电性规格符合使用要求的版图布局存储至标准单元库版图中。与传统方法相比，产生版图快,节省了人力，且不需要EDA辅助设计的工具。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 标准 单元 版图 方法 | ||
【主权项】：
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