[发明专利]非线性最小二乘修正的荧光染色薄膜厚度测量标定方法在审
| 申请号： | 202110431128.3 | 申请日： | 2021-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN113048897A | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 梁鹤;陈虹百;王文中;赵自强 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 代丽;郭德忠 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种非线性最小二乘修正的荧光染色薄膜厚度测量标定方法，能够实现对非线性误差和随机误差的修正，显著减小由荧光强度和薄膜厚度之间的非线性关系以及荧光强度的随机性所带来的测量误差，有效提高荧光染色薄膜厚度的测量精度以及量程。本发明考虑荧光染色薄膜厚度测量标定过程中荧光强度与薄膜厚度之间的非线性以及由荧光强度随机性所导致的测量误差，基于多项式和最小二乘法得到标定系数，实现对非线性误差和随机误差的修正。本发明提供的标定方法可显著减小由荧光强度与薄膜厚度之间的非线性以及标定过程中荧光强度的随机误差导致的测量误差，能有效提高荧光染色薄膜厚度的测量精度以及量程。 | ||
| 搜索关键词： | 非线性 最小 修正 荧光 染色 薄膜 厚度 测量 标定 方法 | ||
【主权项】：
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