[发明专利]一种基于光场调控的双路并行超分辨激光直写装置有效
| 申请号： | 202110388124.1 | 申请日： | 2021-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN113189846B | 公开（公告）日： | 2023-07-18 |
| 发明（设计）人： | 匡翠方;朱大钊;徐良;丁晨良;刘旭;李海峰 | 申请（专利权）人： | 之江实验室;浙江大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/68;B23K26/00;B23K26/06;B23K26/066;B23K26/067 |
| 代理公司： | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人： | 孙孟辉 |
| 地址： | 310023 浙江省杭州市余*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于光场调控的双路并行超分辨激光打印装置，属于超分辨激光微纳加工领域。直写激光器发出的激光依次经过直写路准直器、直写路防漂移系统、直写路能量调控模块、直写路波前调控模块进入合束模块；抑制路激光器发出的激光依次经过抑制路准直器、抑制路防漂移系统、抑制路能量调控模块、抑制路波前调控模块进入合束模块；直写光在直写路波前调控模块中被调制，抑制光在抑制路波前调控模块中被调制，两路光合束后，形成两对直写‑抑制光斑组合。本发明通过分区复用SLM并利用其偏振选择特性，在一束直写光束和一束抑制光束的基础上实现了双聚焦光斑，同时实现每个光斑能量的独立调控，将激光直写打印系统的速度提升了一倍。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 调控 并行 分辨 激光 装置 | ||
【主权项】：
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