[发明专利]两种依托泊苷杂质的制备方法在审

专利信息
申请号: 202110373011.4 申请日: 2021-04-07
公开(公告)号: CN113121618A 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 宋化丰;李孝勇;胡永铸;张池;王忠义 申请(专利权)人: 梯尔希(南京)药物研发有限公司
主分类号: C07H1/00 分类号: C07H1/00;C07H17/04
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 陆志斌
地址: 210000 江苏省南京市浦*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了两种依托泊苷杂质的制备方法,本发明以硅醚保护的4'‑去甲基表鬼臼毒素为起始原料,使用光延反应与依托泊苷缩合、脱保护得到Etoposide EP Impurity R、再经过缩醛水解得到Etoposide Impurity 2。本发明整个路线设计合理,后处理简单、原料易得;制备得到的目标产物纯度可达99.5%以上,可用于药理以及毒理的研究,以及作为药品生产过程中的杂质控制的参考标准。
搜索关键词: 依托 杂质 制备 方法
【主权项】:
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