[发明专利]一种合作吸收双光束超分辨光刻系统及方法在审
| 申请号： | 202110352405.1 | 申请日： | 2021-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN113156773A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 甘棕松;刘紫玉;王端 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 武汉华之喻知识产权代理有限公司 42267 | 代理人： | 彭翠;曹葆青 |
| 地址： | 430074 *** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明属于光刻领域，更具体地，涉及一种合作吸收双光束超分辨光刻系统及方法。该系统包括光源模块、光刻光路模块以及光刻胶模块；光源模块包括第一光源和第二光源，使用两束相同或不同波长的光，一束为制造光，另一束也为制造光，两束光被调制成平行光束，经过光刻镜头进行叠加，叠加部分形成叠加光斑，用于光刻制造，由于叠加部分的光场很小，从而达到超衍射极限的光刻分辨率。两束光对光刻胶材料共同作用，最终消除第一束光由衍射带来的对图案边缘的影响，使得图案更加明锐，提高分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 合作 吸收 光束 分辨 光刻 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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