[发明专利]套刻标记及套刻精度检测方法在审
| 申请号： | 202110346212.5 | 申请日： | 2021-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN113093483A | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 栾会倩;吴长明;姚振海 | 申请（专利权）人： | 华虹半导体（无锡）有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G01B11/00 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 郭立 |
| 地址： | 214028 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了套刻标记，包括前层标记和当层标记，所述套刻标记被测量设备拍摄后用于计算套刻精度，所述前层标记和所述当层标记在所述测量设备拍摄方向上部分重叠，并且前层标记和当层标记同时处在所述测量设备的测量范围内。本发明使CDSEM能一次性量出所有计算OVL所需要的CD，提高套刻精度的检测效率。 | ||
| 搜索关键词： | 标记 精度 检测 方法 | ||
【主权项】：
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