[发明专利]通过离子注入预处理技术在镁合金表面制备LDHs膜层的方法有效

专利信息
申请号: 202110253783.4 申请日: 2021-03-09
公开(公告)号: CN113046697B 公开(公告)日: 2022-05-20
发明(设计)人: 陈飞;窦铮;张优;曾佳;李龙雪 申请(专利权)人: 北京石油化工学院
主分类号: C23C14/16 分类号: C23C14/16;C23C14/48;C23C22/60;C23C28/00
代理公司: 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司 11471 代理人: 尚文文
地址: 102600 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种通过离子注入预处理技术在镁合金表面制备LDHs膜层的方法,通过先对镁合金表面进行离子注入预处理制得预处理后的镁合金,之后将镁合金进行退火处理后,浸入配置的LDHs生长溶液中进行原位生长反应,最终在镁合金表面制备得到LDHs膜层;镁合金通过离子注入预处理后,能够大大降低LDHs膜层生长反应条件,有效简化工艺。形成的离子注入改性层和LDHs层相互结合,可使处理后的镁合金耐蚀性得到显著提升。本发明的方法无需在LDHs生长溶液中添加成膜元素成分,能够实现在低温常压下反应。使用本发明方法原位生长的防护膜层与镁合金基体结合力强,耐腐蚀性能好。
搜索关键词: 通过 离子 注入 预处理 技术 镁合金 表面 制备 ldhs 方法
【主权项】:
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