[发明专利]碳化硅单晶生长控制装置及控制方法在审

专利信息
申请号: 202110248984.5 申请日: 2021-03-05
公开(公告)号: CN113026094A 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: 林大野;王治中;蔡钦铭 申请(专利权)人: 广州爱思威科技股份有限公司
主分类号: C30B23/00 分类号: C30B23/00;C30B29/36
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 郝怀庆
地址: 510000 广东省广州市南沙区万顷*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种碳化硅单晶生长控制装置,壳体内形成有反应腔室,反应腔室内设有碳化硅籽晶置放位;加热装置设于壳体,用以控制反应腔室的内部温度;固态硅坩埚设有第一开口,以向反应腔室内释放硅蒸气,固态碳坩埚设有第二开口,以向反应腔室内通入碳蒸气;两个压力探测器分别位于固态硅坩埚和固态碳坩埚的上方,以分别监控硅蒸气和碳蒸气的的分压;控制器根据两个压力探测器的反馈,调节第一开口与第二开口的开口度。本发明还提供一种碳化硅单晶生长控制方法。本发明通过调节和控制硅蒸气和碳蒸气的分压之比,以使SiC单晶生长过程中难以控制的碳硅比例变得可控,从而提升SiC单晶的质量及纯度。
搜索关键词: 碳化硅 生长 控制 装置 方法
【主权项】:
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