[发明专利]一种用于单晶硅片表面抛光的抛光液及其制备方法有效
| 申请号： | 202110227359.2 | 申请日： | 2021-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN113150697B | 公开（公告）日： | 2023-08-22 |
| 发明（设计）人： | 胡颖妮 | 申请（专利权）人： | 广州凌玮科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人： | 杨艳 |
| 地址： | 511440 广东省广州市番禺区番禺大道北*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于单晶硅片表面抛光的抛光液，包括如下重量份的组分：磨料20份‑60份；表面活性剂0.1份‑1份；金属螯合剂0.1份‑1份；pH值调节剂0.01份‑3份；水50份‑80份；其中，所述磨料为以铝包覆硅的包覆型复合磨料。本发明的包覆型复合磨料综合了氧化铝和氧化硅磨料的优缺点，扬长避短，使得该磨料在水相中易分散，形成的胶体体系稳定不易沉降，并且在化学机械抛光的应用中具有抛光速率快、表面粗糙度低等特点，再配合表面活性剂、金属螯合剂等材料的特点，使抛光后硅片表面易清洗以及精度更符合要求。本发明还提供一种该抛光液的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 单晶硅 表面 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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