[发明专利]处理装置、处理方法及记录介质在审
| 申请号： | 202110147006.1 | 申请日： | 2019-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN112966806A | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | 寺本矢绘美;梁宇新;间濑正启;鲸井俊宏 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | G06N3/02 | 分类号： | G06N3/02;G06N20/00;G06F16/9536 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 安香子 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供处理装置、处理方法以及记录介质。处理装置具备：第1处理部，进行对对象环境适用了规定的行动时的状态转变的模拟，计算状态转变后的上述对象环境的状态、以及利用第1指标求出的对所适用的上述行动的评价值；以及第2处理部，基于表示针对上述对象环境的状态的行动的价值的价值函数，选择行动并输入至上述第1处理部，并且基于由上述第1处理部计算出的上述状态和上述评价值，更新上述价值函数；在上述第2处理部中，基于第2指标，选定上述第1处理部中的模拟结果，并且基于所选定的模拟结果和上述价值函数，决定策略。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 方法 记录 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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