[发明专利]一种检测金属离子含量的方法在审
| 申请号： | 202110119256.4 | 申请日： | 2021-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN112924532A | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 吴智勇;岳思宇;吕亚冰 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01N27/626 | 分类号： | G01N27/626;H01L21/66 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 201315*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种检测金属离子含量的方法，所述方法包括以下步骤：S1、在晶圆需要检测金属离子含量的位置输入能够与晶圆的衬底发生化学反应的第一物质，其中，所述第一物质与所述衬底发生化学反应生成第二物质，所述第二物质从所述衬底的表面渗入所述衬底的内部；S2、检测所述第二物质中所包含的金属离子含量。由于所述第二物质容纳了晶圆的衬底表面所有的金属离子及衬底内部大部分的金属离子，检测出的金属离子含量不仅包括衬底表面的金属离子含量，而且包括渗入衬底内部的大部分金属离子含量，从而提高了金属离子含量检测的准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 检测 金属 离子 含量 方法 | ||
【主权项】：
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