[发明专利]通过针对离子能量分布的RF波形修改的反馈控制

摘要

一种用于对将功率施加到诸如等离子体腔室等的负载的RF功率供应器进行控制的系统包括：主控功率供应器和从属功率供应器。主控功率供应器向从属功率供应器提供诸如频率及相位信号的控制信号。从属功率供应器接收该频率及相位信号，并且还接收从负载检测到的频谱发射的信号特征。从属RF功率供应器改变施加到负载的从属RF功率供应器的RF输出信号的相位和功率。改变功率将对离子分布函数的宽度进行控制，并且改变相位将对离子分布的波峰进行控制。根据RF发生器与负载之间的耦合，检测不同的频谱发射，包括一次谐波、二次谐波、以及在双频驱动系统的情况下的互调失真。