[发明专利]一种过渡金属掺杂富缺陷的二硫化钼及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202110034606.7 申请日: 2021-01-11
公开(公告)号: CN112844420A 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 尹双凤;胡彪;陈浪;申升;郭君康;谢庭亮;蒋诗扬;王丙昊 申请(专利权)人: 湖南大学
主分类号: B01J27/051 分类号: B01J27/051;C01C1/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 410082 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种过渡金属掺杂富缺陷的二硫化钼及其制备方法和应用,所述过渡金属掺杂富缺陷的二硫化钼的分子式为M/MoS2‑x,具有纳米花状结构,式中M为Mn、Co、Fe和W中的一种。本发明以富缺陷的二硫化钼作为基体材料,通过引入过渡金属,二硫化钼结构中的S空位浓度急剧增加,而高浓度的S空位,作为一个电子陷阱中心,有利于氮气的吸附和活化,明显的提升了光催化固氮的活性,例如Mn掺杂的MoS2‑x催化剂,在可见光下不加任何牺牲剂,氨的生成速率达到了148.3μmol/g/h,这大约是纯MoS2‑x的4.85倍。
搜索关键词: 一种 过渡 金属 掺杂 缺陷 二硫化钼 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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