[实用新型]一种用于二次套印的对位装置及涂布机有效
申请号: | 202021187132.7 | 申请日: | 2020-06-23 |
公开(公告)号: | CN213167358U | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 施伟;喻薛刚;李国辉;李宗涛;刘伟 | 申请(专利权)人: | 深圳市新嘉拓自动化技术有限公司 |
主分类号: | B41F17/00 | 分类号: | B41F17/00;B41F33/00;B65H23/16 |
代理公司: | 深圳市深可信专利代理有限公司 44599 | 代理人: | 彭光荣 |
地址: | 518000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于二次套印的对位装置及涂布机,属于锂电池加工设备,对位装置包括牵引组件、调节组件、套印组件和传感器组,所述牵引组件用于将料带牵引至套印组件并由套印组件进行二次套印工作,所述调节组件缓存部分料带,并通过放出或回拉部分料带以调节套印组件的套印位置;解决了二次套印区的位置偏向一侧的一次涂布区甚至直接与一次涂布区重叠的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 二次 套印 对位 装置 涂布机 | ||
【主权项】:
暂无信息
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