[实用新型]一种改进气体分布的等离子蚀刻设备有效
| 申请号： | 202020689928.6 | 申请日： | 2020-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN211743092U | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | 陈磊;廖文含;赵义党;李志强 | 申请（专利权）人： | 珠海恒格电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/02 | 分类号： | H01J37/02;H01J37/18;H01J37/305 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 卢泽明 |
| 地址： | 519000 广东省珠海市横琴新*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种改进气体分布的等离子蚀刻设备，包括真空箱体，真空箱体内部形成真空腔室，真空腔室内设置有多块电极，多块电极相互平行且沿竖直方向设置，真空腔室顶部两侧对称地设置有第一气体主气管、第二气体主气管，第一气体主气管、第二气体主气管沿水平方向设置；真空箱体的顶部设置有第一进气口、第二进气口，反应气体由第一进气口、第二进气口分别进入第一气体主气管、第二气体主气管内，流经第一气体通道和第二气体通道后由第一气体主气管、第二气体主气管流出，输送至真空腔室内。本实用新型结构简单、安装维修简单、成本低，气体进气方式分布均匀，改善了气体在等离子蚀刻设备从外界到电极的分布均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改进 气体 分布 等离子 蚀刻 设备 | ||
【主权项】：
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