[发明专利]版图Dense-3Bar-Dense结构的修正方法在审

专利信息
申请号: 202011562996.7 申请日: 2020-12-25
公开(公告)号: CN112631068A 公开(公告)日: 2021-04-09
发明(设计)人: 邹先梅 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36;G03F7/20
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 焦天雷
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种版图Dense‑3Bar‑Dense结构的修正方法,包括:将版图中的Dense‑3Bar‑Dense结构选出,将Dense‑3Bar‑Dense结构中3Bar结构每根Bar的各边进行分解区分;选定出3Bar中每根Bar的各边,根据各边所处位置和版图的关键尺寸错位选择出不同长度的边段;对错位选定出来的3Bar的各个边分别进行目标图形优化处理;对进行目标图形优化处理后的版图添加曝光辅助图形。本发明在保证了Dense‑3Bar‑Dense结构的特征尺寸满足设计要求的前提下,降低了3Bar中间线的断线风险,避免了近距离的角对角的产生,并且能避免引起新的3Bar中间线断线和桥连缺陷,通过对Dense‑3Bar‑Dense结构添加曝光辅助图形,进一步提高该结构的景深。
搜索关键词: 版图 dense bar 结构 修正 方法
【主权项】:
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