[发明专利]一种晶圆加工机的二次整平设备在审
申请号: | 202011542823.9 | 申请日: | 2020-12-24 |
公开(公告)号: | CN112509952A | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 林斌发 | 申请(专利权)人: | 林斌发 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 230000 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种晶圆加工机的二次整平设备,其结构包括气缸、支撑顶板、加工台、整平装置、放置架,气缸固定安装在支撑顶板顶部中端,支撑顶板底面与加工台顶部相焊接,将压磨装置下端移动到与晶圆片上端面进行抵触,抵触装置在导向框内部进行上升,这时找平板与晶圆片上端面进行抵触,接着启动电机,找平板对晶圆上端面进行整平,伸缩软管进行收缩,这时将整平过程中产生的颗粒残留物从吸附嘴内部吸入进入到找平板内部,避免颗粒残留物停留在晶圆片上端面上,通过刮板下端的倒圆角与晶圆片外侧端进行抵触,从而使得刮板外移,刮板与晶圆片外侧端面进行抵触贴合,通过转动盘进行转动,从而使得刮板对晶圆片外侧端面的颗粒残留物进行清除。 | ||
搜索关键词: | 一种 加工 二次 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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