[发明专利]一种表面沉积保护层的金属电极及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202011474915.8 申请日: 2020-12-15
公开(公告)号: CN112599677A 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 董超;赵志国;秦校军;熊继光;王百月;刘家梁;刘娜;赵东明;肖平;梁思超 申请(专利权)人: 华能新能源股份有限公司;中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司
主分类号: H01L51/44 分类号: H01L51/44;H01L51/48
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 张海平
地址: 100036 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种双镜头刻蚀钙钛矿电池P2正负电极连接刻线保护金属电极的方法。目前钙钛矿太阳能电池组件普遍采用薄膜太阳能电池常见的P1、P2、P3激光刻线方法,然而采用该方法刻蚀所产生的P2刻线刻痕截面为竖直形状,钙钛矿电池在进行金属电极沉积后沉积的金属会与钙钛矿层直接接触,钙钛矿层中的碘离子会对金属电极产生腐蚀,不利于钙钛矿电池组件稳定的功率输出。本发明通过采用双镜头的方式,使得P2刻线刻痕揭截面为梯形,尔后通过沉积化学稳定好的金属层在沉积金属电极的方式来保护金属电极,有利于钙钛矿电池性能的长期稳定性。
搜索关键词: 一种 表面 沉积 保护层 金属电极 及其 制备 方法 应用
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