[发明专利]优化电流分布的方法、装置、集成电路芯片及电子设备有效

专利信息
申请号: 202011462429.4 申请日: 2020-12-10
公开(公告)号: CN112599521B 公开(公告)日: 2022-10-14
发明(设计)人: 冯东东;杨洋 申请(专利权)人: 海光信息技术股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L23/60;H01L23/538
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 余菲
地址: 300450 天津市滨海新区华苑产*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 本申请涉及一种优化电流分布的方法、装置、集成电路芯片及电子设备,属于集成电路技术领域。该方法包括:获取用于表征芯片版图的静电释放的分析结果;基于分析结果,查找是否存在电流值大于第一预设阈值的目标通孔VIA;在存在电流值大于第一预设阈值的目标通孔VIA时,对芯片版图中的通孔VIA网络的排布进行优化,以使流经优化后的通孔VIA网络中的通孔VIA的最大电流值变小。基于表征芯片版图的静电释放的分析结果,当查找到电流值大于第一预设阈值的目标通孔VIA时,对芯片版图中的通孔VIA网络的排布进行优化,以使流经优化后的通孔VIA网络中的通孔VIA的最大电流值变小,以此改善电流在通孔VIA上分布不均衡的问题。
搜索关键词: 优化 电流 分布 方法 装置 集成电路 芯片 电子设备
【主权项】:
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