[发明专利]光电元件及其制造方法在审
申请号: | 202011253368.0 | 申请日: | 2014-07-10 |
公开(公告)号: | CN112510131A | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 陈昭兴;王佳琨;廖健智;曾咨耀;柯淙凯;沈建赋 | 申请(专利权)人: | 晶元光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/38 | 分类号: | H01L33/38 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开一种光电元件,该光电元件包含:半导体叠层包含第一半导体层,活性层形成于第一半导体层之上以及第二半导体层形成于活性层之上;多个边界裸露出部分第一半导体层,多个边界的相邻两边界构成第一半导体层的角落;绝缘层包含第一开口形成于第二半导体层之上及多个第二开口形成于多个边界的一边界裸露的第一半导体层上;第三电极,延伸覆盖于该多个第二开口上,通过多个第二开口以电连接第一半导体层;以及第四电极形成于该第二半导体层上,通过第一开口以电连接第二半导体层。 | ||
搜索关键词: | 光电 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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