[发明专利]一种太阳能硅晶片抗光衰处理上料装置及方法和抗光衰处理设备在审
| 申请号： | 202011181317.1 | 申请日： | 2020-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN112239062A | 公开（公告）日： | 2021-01-19 |
| 发明（设计）人： | 徐建方;王凤连;王莉霞 | 申请（专利权）人： | 宁波初创产品设计有限公司 |
| 主分类号： | B65G47/22 | 分类号： | B65G47/22;B65G47/91;B65G47/88;B65G47/74;H01L31/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 315153 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及太阳能硅晶片生产技术领域，尤其涉及一种太阳能硅晶片抗光衰处理上料装置及方法和太阳能硅晶片抗光衰设备。该装置包括上料输送带、硅晶片限位机构和硅晶片搬移机构；上料输送带和硅晶片限位机构都固定在工作台上，上料输送带输出端与太阳能硅晶片下表面相接触；硅晶片限位机构输出端与太阳能硅晶片两端面相接触；硅晶片搬移机构输出端与太阳能硅晶片上表面相接触，并且硅晶片搬移机构输出端分别与上料输送带和硅晶片输送装置输入端相衔接；该装置通过设置硅晶片限位机构提高整个设备的适用性，保证太阳能硅晶片的精确限位。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 太阳能 晶片 抗光衰 处理 装置 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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