[发明专利]一种非对称光栅结构图案的制作方法在审
| 申请号： | 202011075618.6 | 申请日： | 2020-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN112505811A | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 滕晓辉;黄斗兴;韦海敏 | 申请（专利权）人： | 上海宏盾防伪材料有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/00;G03F7/20;G03F7/40;G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京卫智畅科专利代理事务所(普通合伙) 11557 | 代理人： | 陈佳 |
| 地址： | 201210 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明技术方案公开了一种非对称光栅结构图案的制作方法，确定激光波长下液晶显示器件的灰阶等级与出射光强之间的关系并绘制相应曲线图；结合感光胶的曝光特性确定灰阶等级与蚀刻深度的关系并绘制成曲线图；生成对应调制图，记载至激光直写系统，对感光胶进行曝光刻蚀以生成非对称光栅结构图案；对非对称光栅结构图案进行显影以去除曝光残胶；对显影后的非对称光栅结构图案进行软化处理以提升非对称光栅结构图案的表面光滑度；对软化后的非对称光栅结构图案进行降温冷却以得到完整的非对称光栅结构图案。实现了高精度非对称光栅结构的一次性线性刻蚀，通过显影及软化步骤使得非对称光栅结构具有高信噪比。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 对称 光栅 结构 图案 制作方法 | ||
【主权项】：
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