[发明专利]一种负型高分辨率光刻胶在审
| 申请号： | 202011044016.4 | 申请日： | 2020-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN111999983A | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 邵杰 | 申请（专利权）人： | 邵杰 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/004;G03F7/027;C08F292/00;C08F220/18;C08F232/08;C08F220/14;C08F222/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310018 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及光学材料领域，尤其涉及一种负型高分辨率光刻胶。商品化的碱溶性负型高分辨率光刻胶主要为丙烯酸改性的环氧树脂，但此类树脂的脆性大，在显影时容易造成线条边缘粗糙，而且成膜树脂中含有大量的油性官能团使得成膜树脂在硅片上的附着力较小。基于上述问题，本发明提供一种负型高分辨率光刻胶，通过改性纳米二氧化硅以及N‑(5‑降冰片烯‑2‑甲基)‑甲磺酰胺在光刻胶成膜树脂中引入S、N、Si杂原子还有大量的羟基，不仅有效改善了光刻胶的分辨率和LER，还提高了成膜树脂在硅片上的附着力，具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高分辨率 光刻 | ||
【主权项】：
暂无信息
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