[发明专利]一种分布式布拉格反射镜及其制作方法和设计方法有效
| 申请号： | 202010640500.7 | 申请日： | 2020-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN111884046B | 公开（公告）日： | 2021-11-09 |
| 发明（设计）人： | 曾磊;王肇中 | 申请（专利权）人： | 武汉光谷量子技术有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/183 | 分类号： | H01S5/183;H01S5/187 |
| 代理公司： | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人： | 孟欢 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种分布式布拉格反射镜及其制作方法和设计方法，所述分布式布拉格反射镜的制作方法包括步骤：通过非选择性干法刻蚀和选择性湿法腐蚀相结合的方式，在反射镜层内形成N组高折射率对比度的两层薄膜，其中，折射率对比度大于2。相对于现有的低折射率对比度分布式布拉格反射镜采用十组甚至更多组薄膜组合实现高反射率的技术，本申请提供的分布式布拉格反射镜的制作方法，采用少量组数的薄膜即可实现高反射率，使得制造成本较低、外延工艺控制难度小。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 分布式 布拉格 反射 及其 制作方法 设计 方法 | ||
【主权项】：
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