[发明专利]一种光热敏材料的制备方法

摘要

本发明公开了一种光热敏材料，其特征在于，该材料由以下摩尔百分比的原料制成：GeO260%‑76.5%，ZnO5%‑16%，MF25%‑16%，LiF5%‑16%，SiO270%‑80%，B2O36%‑15%，Na2O4%‑12%，Al2O31‑5%，AgNO30.1‑0.5%。该种光热敏材料的制备方法，通过热处理的温度控制在400‑560℃，并采用λ＝2537A的光源进行光刻所形成的光热敏玻璃，其折射率低，散射系数低，不仅成像清晰，且散射的损耗小，并且相对密度可以控制在0.2‑0.4，该种光热敏材料的制备方法，通过加入AgNO3，使不参加玻璃形成的Ag以Ag+或Ag0的状态存在，在热处理阶段可以促进分相结晶Li2O和SiO2的进一步形成，并且Ag+其粒径小，不会影响玻璃的透明性以及光传像的过程，并且在光激发条件下的透过率高。