[发明专利]用于制造异质结太阳能电池的CVD设备及其镀膜方法有效

专利信息
申请号: 202010635937.1 申请日: 2020-07-03
公开(公告)号: CN111910167B 公开(公告)日: 2022-10-04
发明(设计)人: 陈金元;朱帆;石湘波 申请(专利权)人: 上海理想万里晖薄膜设备有限公司
主分类号: C23C16/24 分类号: C23C16/24;C23C16/54;C23C16/50;H01L31/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201306 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供用于制造异质结太阳能电池的CVD设备及其镀膜方法。该CVD设备包括:第一、第二加载/卸载腔,其相应包括纵向间隔交替设置的第一和第二、第三和第四m层托盘承载件;第一、第二CVD工艺腔,其对应接收来自第一、第三m层托盘承载件的托盘、通过第一、第二工艺相应在硅片的第一面、第二面上沉积I/N、I/P型非晶硅薄膜;传输腔,其与第一、第二加载/卸载腔、第一、第二CVD工艺腔可联通地连接且接收来自第一、第三m层托盘承载件的托盘、将托盘对应传送至第一、第二CVD工艺腔、将承载有完成第一、第二工艺的硅片的托盘对应传送至第二、第四m层托盘承载件;硅片翻面装置,其接收对来自第二m层托盘承载件上的托盘进行下料所得的硅片并将其进行翻面。
搜索关键词: 用于 制造 异质结 太阳能电池 cvd 设备 及其 镀膜 方法
【主权项】:
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