[发明专利]一种真空等离子体修饰富勒烯分子表面的方法有效

专利信息
申请号: 202010597622.2 申请日: 2020-06-28
公开(公告)号: CN111675604B 公开(公告)日: 2022-12-20
发明(设计)人: 孙永青;张永春;李智安;蔺峰 申请(专利权)人: 内蒙古碳谷科技有限公司
主分类号: C07C35/44 分类号: C07C35/44;C07C29/00;C07C13/62;C07C2/00;C07D471/22
代理公司: 济南千慧专利事务所(普通合伙企业) 37232 代理人: 左建华
地址: 010000 内蒙古自治区*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要: 发明涉及一种真空等离子体修饰富勒烯分子表面的方法,该真空等离子体修饰富勒烯分子表面的方法,在真空条件下,通过等离子体源分别作用富勒烯蒸汽分子和修饰气体,以使离化形成的富勒烯离子,与等离子体中的离子、激发态原子(分子)等高能态粒子,即与离化的修饰气体发生共价键键合反应,来实现对富勒烯分子表面的离子修饰,获得富勒烯衍生物。本申请采用物理方法来修饰富勒烯表面,以形成富勒烯衍生物,这种方法形成的富勒烯衍生物纯度较高,基本等同于富勒烯原料的纯度,这明显高于化学方法合成的富勒烯衍生物。
搜索关键词: 一种 真空 等离子体 修饰 富勒烯 分子 表面 方法
【主权项】:
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