[发明专利]一种用于光学级PMMA改性的纳米霞石粉的制备方法在审

专利信息
申请号: 202010584940.5 申请日: 2020-06-23
公开(公告)号: CN111635560A 公开(公告)日: 2020-09-08
发明(设计)人: 朱克均;曹江;余磊 申请(专利权)人: 深圳市德立新材料科技有限公司
主分类号: C08K9/06 分类号: C08K9/06;C08K9/04;C08K3/34;C08K5/11;C08K3/32;C08L91/00;C08L33/12;C09C1/40;C09C3/12
代理公司: 深圳市新虹光知识产权代理事务所(普通合伙) 44499 代理人: 孙畅
地址: 518000 广东省深圳市宝安*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种用于光学级PMMA改性的纳米霞石粉的制备方法,具体包括如下步骤:S1:按重量份称取120‑200份天然霞石粉,并对天然霞石粉进行工艺提纯,收集提纯霞石粉;S2:按重量份称取30‑40份硅烷偶联剂、20‑30份丙烯酸与S1所获得的提纯霞石粉混合搅拌30‑50min获得混合物,搅拌完成后通过喷雾干燥对混合物进行干燥处理,获得混合粉末;S3:对混合粉末进行粉碎处理,粉碎后的粉末再经过过筛处理,获得细粉。本发明通过加入辅料来提升PMMA材料的抗热变形能力,15#白矿油起到良好的润滑效果,保证PMMA材料的润滑性,分散剂能够与PMMA材料快速熔合,并且设置的分散剂均为无机盐,PMMA材料熔合后增强了自身的抗热变形能力,即形成PMMA耐热改性材料。
搜索关键词: 一种 用于 光学 pmma 改性 纳米 霞石 制备 方法
【主权项】:
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