[发明专利]反应腔室泄漏监测方法以及装置、半导体设备系统有效
| 申请号： | 202010419574.8 | 申请日： | 2020-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN111579172B | 公开（公告）日： | 2022-04-26 |
| 发明（设计）人： | 李相龙;李俊杰;李琳;王佳 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司 |
| 主分类号： | G01M3/26 | 分类号： | G01M3/26;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人： | 房德权 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种反应腔室泄漏监测方法以及装置、半导体设备系统，所述反应腔室泄漏监测方法包括：在将当前晶圆送入反应腔室之后，按照设定时长对所述反应腔室抽真空；检测所述反应腔室在抽真空结束时的压力，获得初始压力值；在所述当前晶圆在所述反应腔室中进行每个工艺步骤时，实时采集与所述反应腔室连接的压力阀的开度，获得实时开度值，所述压力阀用于调节所述反应腔室的气压；根据所述初始压力值和所述实时开度值，确定所述反应腔室是否发生泄漏。本发明提供的反应腔室泄漏监测方法以及装置、半导体设备系统，能够实时监测反应腔室是否发生泄漏。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 泄漏 监测 方法 以及 装置 半导体设备 系统 | ||
【主权项】：
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