[发明专利]一种硫酸新霉素的杂质及其制备方法在审
申请号: | 202010353287.1 | 申请日: | 2020-04-29 |
公开(公告)号: | CN111560041A | 公开(公告)日: | 2020-08-21 |
发明(设计)人: | 王晓东;刘健;蒋祖艳;刘思远;李为全;董想 | 申请(专利权)人: | 新宇药业股份有限公司 |
主分类号: | C07H15/224 | 分类号: | C07H15/224;C07H1/00 |
代理公司: | 合肥晨创知识产权代理事务所(普通合伙) 34162 | 代理人: | 康培培 |
地址: | 234000 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明一种硫酸新霉素的杂质及其制备方法,硫酸新霉素的杂质为杂质A、杂质B中的一种或两种的组合,首先推测杂质结构,再进行定向合成,对合成得到的目标化合物进行详细的结构分析,确认化合物结构,能准确鉴定和大量制备杂质A和杂质B,对硫酸新霉素产品的质量研究提供良好的基础。本发明提供的硫酸新霉素的杂质及其制备方法,对于硫酸新霉素杂质的相关研究意义重大,是提高硫酸新霉素药品质量、解决硫酸新霉素合成及发酵过程中产生的工艺杂质或者降解杂质的可靠对照,可用于硫酸新霉素合成、发酵中的杂质定性和定量分析,可提高硫酸新霉素的质量标准,有效保障和控制硫酸新霉素的质量,对硫酸新霉素原料的质量研究及制剂研究有重要应用价值。 | ||
搜索关键词: | 一种 硫酸 新霉素 杂质 及其 制备 方法 | ||
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