[发明专利]基片升降机构、基片支承器和基片处理装置有效

专利信息
申请号: 202010157227.2 申请日: 2020-03-09
公开(公告)号: CN111710641B 公开(公告)日: 2023-06-20
发明(设计)人: 出口新悟 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/687 分类号: H01L21/687
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳;刘芃茜
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供基片升降机构、基片支承器和基片处理装置。在一个例示的实施方式的基片升降机构中,使升降销升降的驱动机构以容许升降销的水平移动的方式支承升降销。多个波纹管以包围升降销的方式沿垂直方向排列。多个波纹管包括第1波纹管和第2波纹管。第1波纹管设置于多个波纹管中最靠上的位置。第1波纹管具有作为固定端的上端和能够与升降销一起水平移动的下端。第2波纹管设置于第1波纹管的下方,能够与升降销的升降连动地在垂直方向上伸缩。限制机构限制第1波纹管的垂直方向上的伸缩。本发明能够容许升降销的水平移动且能够缩短密封升降销的周围的空间的多个波纹管的全长。
搜索关键词: 升降 机构 支承 处理 装置
【主权项】:
暂无信息
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