[发明专利]在基底上形成图案的方法及其应用有效
| 申请号： | 202010150705.7 | 申请日： | 2020-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN111538212B | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 姜学松;李甜甜 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 赵艳 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种在基底上形成图案的方法及其应用。具体地，本申请的方法包括如下步骤：(a)将光敏材料和聚合物在溶剂中的溶液施涂于所述基底上并干燥，从而形成涂膜，其中所述光敏材料在紫外光照射下可直接发生光化学反应；以及(b)穿过非接触式掩模，对所述涂膜进行紫外光照射，在照射过程中，所述光敏材料从涂膜的非曝光区迁移至曝光区，使得所述曝光区按照所述掩模版的图案进行生长，从而在所述涂膜上形成所述图案。而且，根据本发明的方案尤其适于体光栅的制备和芯片的图案化封装。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 形成 图案 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
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