[发明专利]一种多轴光固化3D微纳加工设备及方法有效
申请号: | 202010131785.1 | 申请日: | 2020-02-29 |
公开(公告)号: | CN111421817B | 公开(公告)日: | 2021-07-02 |
发明(设计)人: | 段辉高;单武斌;王兆龙;刘鹏 | 申请(专利权)人: | 湖南大学 |
主分类号: | B29C64/129 | 分类号: | B29C64/129;B29C64/20;B29C64/245;B29C64/264;B29C64/241;B29C64/236;B29C64/232;B33Y30/00 |
代理公司: | 北京睿博行远知识产权代理有限公司 11297 | 代理人: | 刘桂荣 |
地址: | 410082*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种多轴光固化3D微纳加工设备及方法,属于3D微纳加工技术领域。包括轴座、Z轴导轨、Z轴直线电机、悬臂、工作台、溶液槽)、溶液槽支架、立柱、X轴导轨、X轴导轨支架、B轴伺服电机、B联轴器、B轴支架、光机、A轴伺服电机、A联轴器、A轴支架、Y轴直线电机、Y轴导轨、旋转台、旋转伺服电机和机身底座。本发明采用掩膜版成像替换当前学者提出的DMD芯片成像,提高打印精度,并实现大面积扫描;通过缩放镜使其进一步缩小提高打印精度,导致打印面积变小,从而大件零件打印无法满足精度和尺寸的要求,掩膜版技术比较成熟,精度容易实现亚微米甚至纳米级,能较好的克服此缺陷。 | ||
搜索关键词: | 一种 光固化 加工 设备 方法 | ||
【主权项】:
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