[发明专利]一种硅基激光器及其制备、解理方法有效

专利信息
申请号: 202010062567.7 申请日: 2020-01-19
公开(公告)号: CN111262125B 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 欧欣;林家杰;游天桂;金婷婷;沈正皓 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: H01S5/02 分类号: H01S5/02
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;贾允
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 本申请涉及一种硅基激光器及其制备、解理方法,该解理方法通过获取硅衬底;将硅衬底的顶面沿第一方向刻蚀出多个第一脊条,得到刻蚀后的硅衬底;在硅衬底上形成Ⅲ‑Ⅴ族薄膜层;在Ⅲ‑Ⅴ族薄膜层外延生长形成激光器层;将激光器层的顶面沿第二方向刻蚀出多个第二脊条,得到硅基激光器;第二方向与第一方向互相垂直;将硅基激光器沿第二方向进行分割,得到多个硅基激光器长条。对于多个硅基激光器长条的每个硅基激光器长条:由于相邻的第一脊条之间有沟槽,硅衬底在沟槽底部较薄,因此在多个第一脊条中相邻的两个第一脊条之间施加外力,使得硅基激光器长条沿第一方向自然解理,如此,可以获得平整的激光器腔面,可以提高硅基激光器的解理效率。
搜索关键词: 一种 激光器 及其 制备 解理 方法
【主权项】:
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