[发明专利]一种光刻掩膜板缺陷检测方法及设备和芯片在审
| 申请号： | 202010061666.3 | 申请日： | 2020-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN111257325A | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 陈颖;韦亚一;董立松;陈睿;吴睿轩;粟雅娟 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G06T7/00;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 | 代理人： | 王胜利 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻掩膜板缺陷检测方法及设备和芯片，涉及光刻技术领域，以降低掩膜板的缺陷检测成本的同时，加快检测速度的同时，提高缺陷检测准确率。所述光刻掩膜板缺陷检测方法包括：获取待测掩膜板的光刻投影，所形成的空间图像分布；利用缺陷机器学习模型对所述待测掩膜板的空间图像分布进行检测，获得光刻掩膜板的缺陷信息。所述光刻掩膜板缺陷检测设备用于执行光刻掩膜板缺陷检测方法。本发明提供的光刻掩膜板缺陷检测方法用于检测掩膜板缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 掩膜板 缺陷 检测 方法 设备 芯片 | ||
【主权项】：
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