[发明专利]预防研磨液沉淀的装置和方法有效
| 申请号： | 202010053202.8 | 申请日： | 2020-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN111216045B | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | 张俊杰 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | B24B57/02 | 分类号： | B24B57/02;B08B9/027 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 郭四华 |
| 地址： | 201315 上海市浦东新区中国（上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种预防研磨液沉淀的装置，包括：连接在研磨液供应系统和化学机械研磨机台之间的研磨液供应管路；在靠近化学机械研磨机台一侧的研磨液供应管路上设置有回流出口；研磨液回流管路设置在研磨液供应系统和回流出口之间；研磨液供应管路上设置有可旋转结构，在研磨液供应管路上设置有旋转装置，旋转装置在研磨液供应管路中沉淀或结晶形成的固化物颗粒的数量达到设定值之前对研磨液供应管路进行旋转，以清除研磨液供应管路中沉淀或结晶形成的固化物颗粒。本发明还公开了一种预防研磨液沉淀的方法。本发明能防止在研磨液供应管路中沉淀或结晶过多数量的固化物颗粒，从而能减少晶片表面发生刮伤缺陷的概率。 | ||
| 搜索关键词： | 预防 研磨 沉淀 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力集成电路制造有限公司，未经上海华力集成电路制造有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010053202.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种光纤照明装置
- 下一篇：一种双ID二维码微码元的编码和解码方法及系统
