[发明专利]布局图形的矫正方法及系统、掩膜版、设备、存储介质

摘要

一种布局图形的矫正方法及系统、掩膜版、设备、存储介质，矫正方法用于在确定掩膜基底后，实现光学邻近修正前的预矫正，包括：提供原始版图，包括与掩膜基底相对应的布局图形，并确定布局图形对应于掩膜基底上的位置作为第一初始位置，布局图形所在的区域为图形区，剩余区域为遮挡区；对掩膜基底进行检测，获取掩膜基底上的缺陷点并确定缺陷点在掩膜基底上的位置为第二初始位置；获取缺陷点的第一偏移矢量，第一偏移矢量适于使缺陷点由第二初始位置移动至任一遮挡区；计算第一偏移矢量的负矢量为第二偏移矢量；根据第二偏移矢量移动布局图形，使布局图形对应于掩膜基底上的位置由第一初始位置变更为优化后位置。本发明提高光刻图形的精度。