[发明专利]硅层刻蚀剂组合物、制备其的方法及形成图案的方法有效
| 申请号： | 202010025962.8 | 申请日： | 2020-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN111410963B | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 全唱守;吴政玟;李晓山;韩勋;鲁珍圭;尹嚆重;申东雲 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社;东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/00 | 分类号： | C09K13/00;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京汇知杰知识产权代理有限公司 11587 | 代理人： | 杨巍;潘璐 |
| 地址： | 韩国京畿道水*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种硅层刻蚀剂组合物、制备其的方法及形成图案的方法，所述组合物包含约1重量％到约20重量％的烷基氢氧化铵；约1重量％到约30重量％的胺化合物；约0.01重量％到约0.2重量％的包括疏水基团及亲水基团两者的非离子表面活性剂；以及水，所有重量％都是基于所述硅层刻蚀剂组合物的总重量。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀 组合 制备 方法 形成 图案 | ||
【主权项】：
暂无信息
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