[发明专利]一种半导体陶瓷部件表面有机沉积物的去除方法在审
| 申请号： | 202010017834.9 | 申请日： | 2020-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN111195625A | 公开（公告）日： | 2020-05-26 |
| 发明（设计）人： | 陈宁;阮计划 | 申请（专利权）人： | 上海宏科半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B7/00;B08B3/10;B08B3/04 |
| 代理公司： | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 | 代理人： | 李昌霖 |
| 地址： | 201712 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体陶瓷部件表面有机沉积物的去除方法，包括以下步骤：S1、将待清洗的半导体陶瓷部件浸泡于酸洗溶液内进行清洗，然后晾干待用；S2、将经过酸洗后的半导体陶瓷部件放置于高温炉内进行高温焙烧处理，经过升温、保温、降温后，自然冷却至室温；S3、再将经过高温焙烧处理的半导体陶瓷部件使用酸洗溶液再次进行浸泡清洗，再经过水洗、干燥，即可。采用本发明中的去除方法，可保证半导体陶瓷部件的清洗效果，且能够完好的保存部件表面的原始特征，提高陶瓷部件的再生率，延长其重复使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 陶瓷 部件 表面 有机 沉积物 去除 方法 | ||
【主权项】：
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