[发明专利]一种低透过率低反射率镀膜片有效
| 申请号： | 202010013282.4 | 申请日： | 2020-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN111190244B | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 葛文志;王刚;王懿伟;矢岛大和;翁钦盛 | 申请（专利权）人： | 杭州美迪凯光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B1/11;G02B1/116;C23C14/24;C23C14/34;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/18;C23C14/00 |
| 代理公司： | 杭州华知专利事务所(普通合伙) 33235 | 代理人： | 杨秀芳 |
| 地址： | 310000 浙江省杭州市经*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种低透过率低反射率镀膜片制备方法，包括衬底基板，其特征在于，所述衬底基板表面镀有多层膜结构，所述的膜结构包括介电质膜和金属膜；所述衬底基板上不同所述金属膜的厚度随与所述衬底基板距离的增大而减小。本发明利用蒸镀工艺和溅射镀膜工艺，并通过在镀膜过程中调节金属材料蒸镀用量或金属靶材溅射用量来控制每层金属膜层的厚度，从而实现低透过率、低反射率镀膜片的制备，所用原料简单、容易配制，制备过程更加方便；由于制备过程中膜材料用量容易通过设备进行控制，故而制备出的镀膜片的膜厚度更加均匀，衬底基板镀膜过程在真空环境中进行，膜材料在衬底基板表面分布更加均匀；所制成品透过率低、反射率低，遮光效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透过 反射率 镀膜 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州美迪凯光电科技股份有限公司，未经杭州美迪凯光电科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010013282.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
