[发明专利]量测设备在审
| 申请号： | 201980038794.1 | 申请日： | 2019-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN112262345A | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | N·潘迪;A·J·登鲍埃夫;D·阿克布卢特;M·J·M·范达姆;H·巴特勒;H·A·J·克拉默;E·A·F·范德帕斯奇;F·泽普;J·A·L·J·瑞马克;M·P·瑞因德斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01N21/47;G01N21/956 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 闫红 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于确定制作于衬底上的结构的感兴趣的参数的量测工具，所述量测工具包括：照射光学系统，用于利用照射辐射以一非零入射角照射所述结构；检测光学系统，包括检测光学传感器和至少一个透镜，所述至少一个透镜用于捕获被所述结构散射的照射辐射的部分并朝向所述检测光学传感器透射所捕获的辐射，其中所述照射光学系统和检测光学系统未共用光学元件。 | ||
| 搜索关键词： | 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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