[发明专利]一种化成箔处理液、处理方法及化成箔在审

专利信息
申请号: 201911304811.X 申请日: 2019-12-17
公开(公告)号: CN112981485A 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 姜希松;姜鹏;赵大成;王明杰;贾云;李东荣 申请(专利权)人: 深圳新宙邦科技股份有限公司
主分类号: C25D11/02 分类号: C25D11/02;C25D11/06;H01G9/055
代理公司: 深圳众鼎专利商标代理事务所(普通合伙) 44325 代理人: 姚章国
地址: 518118 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 为克服现有电容器化成箔存在升压时间长、漏电流大的问题,本发明提供了一种化成箔处理液,包括溶剂和结构式1所示的化合物;其中,X1、X2和X3各自独立地选自卤素、胺基、羟基、烷氧基、酰氧基或烷基,R选自以下结构式2~4所示的基团,n选自1~10;同时,本发明还公开了一种化成箔处理方法及化成箔。本发明提供的化成箔处理液能够有效缩短化成箔的升压时间,降低漏电流,有效缩短了电容器老化的时间,抑制电容器的漏电流回升,减少电容器的早期失效概率。
搜索关键词: 一种 化成 处理 方法
【主权项】:
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