[发明专利]储液设备、晶圆处理装置以及供液方法在审
申请号: | 201911241909.5 | 申请日: | 2019-12-06 |
公开(公告)号: | CN112916333A | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
发明(设计)人: | 董佳仁;林育震 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | B05C11/10 | 分类号: | B05C11/10;B05C11/11;H01L21/67 |
代理公司: | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人: | 孙佳胤 |
地址: | 230001 安徽省合肥市蜀山*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 该发明涉及一种储液设备、晶圆处理装置以及供液方法,能够提高旋涂至目标表面的光阻层的质量,避免最终的光刻结果不佳,提高晶圆生产的良率。其中所述储液设备包括液体缓冲槽,用于盛装液体,还包括超声波震荡器,安装至所述液体缓冲槽,用于使所述液体缓冲槽内盛装的液体震动,以排出所述液体缓冲槽内盛装的液体内的气泡;所述超声波震荡器内设置有换能器,由所述换能器将超声波发射至所述液体缓冲槽内。 | ||
搜索关键词: | 设备 处理 装置 以及 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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