[发明专利]调节装置、晶圆曝光设备及晶圆边缘曝光方法在审
| 申请号： | 201911166000.8 | 申请日： | 2019-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN112835264A | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | 温建胜 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 史治法 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种调节装置、晶圆曝光设备及晶圆边缘曝光方法，调节装置，用于晶圆的边缘曝光，调节装置包括：遮光圆盘，遮光圆盘的直径小于晶圆的直径；调节模块，包括环形边缘部，位于遮光圆盘的外围；驱动装置，用于驱动环形边缘部运动，以调节环形边缘部与遮光圆盘的中心的间距。上述调节装置提高了晶圆边缘曝光速度，大大降低了晶圆边缘曝光时间，提高了晶圆边缘曝光效率，从而降低了生产成本。调节装置能调节大小，使得晶圆边缘曝光设备能曝光不同尺寸的晶圆，还能调控晶圆边缘曝光的宽度，扩展了晶圆曝光设备的应用范围。 | ||
| 搜索关键词： | 调节 装置 曝光 设备 边缘 方法 | ||
【主权项】：
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