[发明专利]加热装置及化学气相沉积系统在审
| 申请号： | 201911075445.5 | 申请日： | 2019-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN110656319A | 公开（公告）日： | 2020-01-07 |
| 发明（设计）人： | 吴俊德;赖彦霖;陈佶亨 | 申请（专利权）人： | 錼创显示科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/46 | 分类号： | C23C16/46;C23C16/458 |
| 代理公司： | 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 罗英;臧建明 |
| 地址： | 中国台湾新竹科学园*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种包括承载台、多个载盘、多个第一加热器以及至少一第二加热器的加热装置被提出。承载台具有公转轴。多个载盘设置于承载台上。承载台带动这些载盘以公转轴为中心而公转。多个第一加热器设置于承载台下，并定义出第一加热区。任两相邻的第一加热器之间具有第一间距。这些第一加热器在公转轴的径向上分别具有第一宽度至少一第二加热器设置于承载台下，并定义出第二加热区。第二加热器在公转轴的径向上具有第二宽度，且第一宽度等于第二宽度。第二加热区与第一加热区之间具有最小间距，且最小间距不等于第一间距。一种采用加热装置的化学气相沉积系统也被提出。 | ||
| 搜索关键词： | 第一加热器 公转轴 加热器 承载台 载盘 第二加热区 第一加热区 加热装置 承载 化学气相沉积系统 | ||
【主权项】：
1.一种加热装置，包括：/n承载台，具有公转轴；/n多个载盘，设置于所述承载台上，其中所述承载台带动所述多个载盘以所述公转轴为中心而公转；/n多个第一加热器，设置于所述承载台下，并定义出第一加热区，任两相邻的所述多个第一加热器之间具有第一间距，其中各所述第一加热器在所述公转轴的径向上具有第一宽度；以及/n至少一第二加热器，设置于所述承载台下，并定义出第二加热区，其中所述第二加热器在所述公转轴的径向上具有第二宽度，所述第二加热区与所述第一加热区之间具有最小间距，且所述最小间距不等于所述第一间距，所述第一宽度等于所述第二宽度。/n
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- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
